18a芯片「18A节点放弃使用High-NA EUV光刻机，英特尔还能反超台积电么？」

日前，英特尔收到了ASML发来的全球首台High-NA EUV光刻机，引起了广泛关注。就在大家都认为英特尔已经领先台积电一步，可以用最先进的EUV光刻设备生产18A工艺时，却传出了暂时不用的消息。

英特尔CEO帕特·基辛格在最近的季度电话财报会议上表示，英特尔不会在18A节点上使用High-NA EUV光刻机，该设备留到下一个“Major”节点再使用。

18A即是英特尔1.8nm工艺，是其重返制程技术领导地位的关键工艺，而High-NA EUV也是2nm及以下工艺的关键设备。然而，英特尔为何不在关键节点上用High-NA EUV光刻机？没有High-NA EUV助阵，英特尔又如何在2025年重返制程技术第一？

英特尔为何不用High-NA EUV生产18A工艺？

首先，我们先了解一下High-NA EUV光刻机，它是极紫外光刻技术的一种，具有极高的数值孔径。这意味着它可以实现更高的分辨率和更低的制造成本。

在芯片制造中，分辨率决定了芯片上电路的精细程度，而制造成本则直接关系到产品的竞争力。因此，High-NA EUV光刻机的研发和应用被视为未来芯片制造的关键，它是未来制造2nm及以下芯片的关键设备。

然而，基辛格表示，出于风险管控的考虑，英特尔不会在18A节点上使用High-NA EUV。

据基辛格称，英特尔在将内部工业推向世界领先地位的过程中，风险管控是重要的一环。他认为，引入High-NA EUV光刻机这一风险因素，可能会对英特尔的工艺研发和生产带来不必要的风险。

根据基辛格的解释，笔者总结大概有以下几个方面原因。

1. 风险控制：英特尔在重新将内部工业推向世界领先地位的过程中，可能认为引入High-NA EUV光刻机这一风险因素可能带来不必要的风险。因此，为了确保稳定性和可靠性，英特尔决定推迟下一代光刻技术的应用。

2. 技术成熟度：尽管High-NA EUV光刻机被视为未来芯片制造的关键技术，但其技术成熟度可能尚未达到英特尔的要求。英特尔可能希望在确保技术成熟和可重复性的情况下，再将其应用于生产。

3. 生产成本：High-NA EUV光刻机的购买和维护成本非常高昂，这可能导致英特尔在生产成本方面面临压力。英特尔可能认为在现阶段引入High-NA EUV光刻机将对其盈利能力产生负面影响。

当然，这一决定引发了业界对英特尔未来技术发展的关注，其如何重返制程技术第一成为了备受关注的问题。

没有High-NA EUV助阵，英特尔如何反超台积电重返第一？

英特尔曾制定一个“4年5节点”战略，要在2025年打败台积电等巨头，重返制程技术领导地位。其中，18A工艺是其重返第一的关键工艺。但英特尔收到ASML最先进的High-NA EUV光刻机后，并不用在这最关键工艺上。

少了先进设备助力，英特尔还有什么办法重返制程技术第一呢？事实上，他还可以做好以下四件事。

1. 英特尔可以进一步发展其系统级代工策略，提供晶圆制造、封装、芯粒、软件等一揽子解决方案，以确保其制程技术的持续进步和领先。此外，英特尔还可以与43家潜在客户和生态伙伴合作，共同测试和优化芯片设计。

2. 英特尔可以通过架构创新来提升竞争优势。例如，RibbonFET全环绕栅极晶体管和PowerVia背面供电技术等，帮助英特尔提高了芯片的性能、能效和可靠性，以确保其在制程技术上保持领先地位。

3. 不用High-NA EUV光刻机，英特尔也可以通过不断优化现有制程技术来提高芯片性能。比如，改进工艺流程、提高设备效率、降低缺陷率等，通过不断的技术优化，以确保其在制程技术上保持竞争力。

4. 英特尔可以与其他技术领先者、研究机构和高校建立合作关系，共同研发新的制程技术。通过与外部机构的合作，英特尔可以获得更多的技术资源和人才支持，推动其制程技术的持续创新。

总之，英特尔想要在2025年重返制程技术领先地位，又不用High-NA EUV光刻机，那么，它就该做好万全准备，多从代工策略、架构创新、优化技术、加强合作等方面来多做努力。

那么，你认为英特尔为何现在不使用High-NA EUV？欢迎大家留言讨论。