台积电吹太过？N3工艺良率曝出大问题：A17性能令人担忧「台积电因成本太高决定放弃n3工艺」

1月11日，据韩国经济日报报道，由于台积电N3工艺良率不足，投片量过低，导致除苹果之外的厂商都选择暂停投入到第一代3nm工艺阵营。按早前的说法，台积电的3nm工艺良率达到了80%，而三星的3nm工艺仅有10%~20%，但目前看来，两家厂商的良率实际上可能相差不大。

（图片来自：苹果官网）

台积电N3工艺在去年底正式宣布量产，所有厂商的目光都聚焦到了台积电身上，尤其是首次公开的良率高达80%，让消费者们看到了性能提升的希望。不过，从最新曝光的消息来看，台积电似乎“隐瞒”了一些实情。按照爆料情况来看，台积电的首批3nm制程工艺客户应该包含了市场几大头部厂商，例如英特尔、AMD、高通和苹果，但前几个品牌相继从首批客户的列表中退出，只剩苹果依然还在坚持。现在看来，除了代工价格高昂之外，似乎还有良率不足的问题。

（图片来自：Snapdragon）

另一方面，受到iPhone 14与iPhone 14 Plus减产影响，苹果不再需要大量采购A15仿生芯片，而台积电5nm制程工艺的利用率回落到70%～80%，对本就出现订单量不足的台积电造成巨大的压力。不过，高通在前段时间透露，骁龙8 Gen3移动平台将会采用3nm制程工艺，但订单会同时交由台积电与三星负责，前者占据较大的订单量，而后者则是负责补充产能。当然，距离高通下一代旗舰芯片投产还有很长的时间，说不定台积电和三星都成功提升了良率，表现更加优异呢？

（图片来自：苹果官网）

所幸台积电在3nm制程工艺上准备了5个版本，不出意外的话，苹果A17仿生芯片、骁龙8 Gen3应该都会采用更加先进的N3E工艺，这个版本的最大优势是价格便宜，但对性能提升的影响可能没有这么大。竞争对手三星的第二代3nm制程工艺已经在路上，不仅良率得到了很大的提升，功耗也将至少下降45%；三星还允许客户通过调整纳米片的宽度来定制所需的性能表现，可以说是服务相当到位了。

（图片来自：Snapdragon）

事实上，即便台积电表现不佳，苹果、高通也不得不跟进最新的先进工艺。从苹果“挤牙膏”式的性能提升来看，A系列仿生芯片急需先进工艺来获得更大的提升，特别是功耗部分，正是能耗不平衡的问题才让苹果取消了为A16仿生芯片提供光线追踪特性，这也让A16成为今年唯一一款不支持该特性的旗舰级移动平台，令人遗憾。在台积电4nm的加持下，骁龙8 Gen2已经有了和苹果叫板的底气。这样看来，下一代旗舰芯片的竞争将会相当激烈。

（封面图片来自：苹果官网）