中国euv光刻机研发进展「中国科技再次崛起，EUV光刻技术迎来重大突破!」

中国科技门户再次迎来了一项重大突破。近期，哈尔滨工业大学（哈工大）成功研发了“电能转化等离子体线路”技术，实现了DPP-EUV光源的应用。这一创新是中国在EUV光刻机领域的首次突破，不禁让人对中国的科技创新能力刮目相看。

EUV光刻机是利用极紫外光（EUV）来制造芯片的设备。这种光的波长非常短，只有13.5纳米，能够在芯片上刻出更细微的线条，提高芯片的性能和效率。目前，EUV光刻机是制造7纳米以下工艺的芯片的必备设备。

哈工大的科研团队在DPP-EUV光源的基础上，进行了创新性的研究。通过发现了一种新的电能转化等离子体的现象和规律，并以此为基础，开发出了一种全新的线路结构，可以将电能高效地转化为等离子体能量，从而驱动EUV光源的生成。

这一成果将为中国的芯片制造产业带来革命性的变化。外媒纷纷对此表示关注和高度评价。《华尔街日报》在报道中指出，哈工大的这项技术突破意味着中国在芯片制造领域的技术实力再次得到提升。该报道还提到，中国政府近年来在科技领域的投入不断加大，推动了该国科技创新能力的提升。

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